愛姆加電子設備
勻膠顯影蝕刻專用設備生產商
誠信創新
精工
專注
專注成就品質，品質塑造未來！
Focus on the achievement of quality, quality to shape the future！?
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半導體常見詞匯(二)
三、材料與化學品Photoresist(光刻膠)——正膠（Positive）/負膠（Negative）Reticle/Mask(掩模版)——光刻用模板Silicon Wafer(硅片)——常用尺寸：6英寸、12英寸Die(芯片)——切割后的單個晶片Argon(【詳細】
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15891750928 / 029-8362-7399
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