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     濕法刻蝕是利用化學(xué)溶液和晶圓表面的材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氣體、液體或者可溶于化學(xué)溶液的物質(zhì)。去除需要刻蝕的部分，達(dá)到刻蝕的目的。濕法刻蝕主要包括三個(gè)基本過(guò)程，分別是濕法刻蝕、沖洗、甩烘干。濕法刻蝕清洗機(jī)按清洗的結(jié)構(gòu)可分為槽式批量清洗和單片清洗機(jī)兩種類型，而槽式清洗可分為半自動(dòng)清洗和全自動(dòng)清洗兩種機(jī)臺(tái)。

    槽體可分為酸堿刻蝕槽、溢流清洗槽、快速排水槽和使晶圓快速干燥的干燥槽等，另外根據(jù)濕法工藝要求的不同，還可增加加熱或制冷、超聲、拋動(dòng)、鼓泡、旋轉(zhuǎn)、循環(huán)等功能。加熱是通過(guò)加熱棒對(duì)反應(yīng)液體進(jìn)行快速加熱，以達(dá)到工藝所需溫度，提升濕法刻蝕速率；鼓泡是通過(guò)在反應(yīng)液體中吹氣，形成氣泡，是液體與晶圓表面充分接觸提高工作效率；拋動(dòng)和旋轉(zhuǎn)是通過(guò)機(jī)械臂使晶圓上下拋動(dòng)，并旋轉(zhuǎn)晶圓，使其和反應(yīng)液體充分均勻接觸，提高刻蝕速率均勻性。

    濕法刻蝕是一種純粹的 化學(xué)反應(yīng)過(guò)程。優(yōu)點(diǎn)：1.應(yīng)用范圍廣，適用于幾乎所有材料；2.選擇比大，易于光刻膠的掩蔽和刻蝕終點(diǎn)的控制；3.操作簡(jiǎn)單，成本低，適宜于大批量加工。缺點(diǎn)：1.為各向同性腐蝕，容易出現(xiàn)鉆蝕；2.由于液體存在表面張力，不適宜于腐蝕極細(xì)的線條；3.化學(xué)反應(yīng)時(shí)往往伴隨放熱與放氣導(dǎo)致腐蝕不均勻。

    常見(jiàn)的腐蝕液有氧化硅腐蝕液、硅腐蝕液、氮化硅腐蝕液、鋁腐蝕液等。