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光刻膠涂布工藝

光刻膠需要在晶圓上形成均勻厚度的一層薄膜。薄膜形成使用的是對晶圓一片一片處理的單片式設備。旋轉涂膠設備將真空用真空吸盤固定，表面向上，再滴入一定量的光刻膠，然后高速旋轉晶圓，直至薄膜厚度均勻。

根據轉速和光刻膠黏度可以調整光刻膠薄膜厚度，一般來說，轉速越高薄膜厚度越薄，光刻膠黏度越高薄膜厚度越厚。

光刻膠涂布的實際情況

由于光刻膠在空氣中放置會干燥并變成固體，因此在晶圓上涂膠前，要從噴嘴中丟棄少量光刻膠，保證一直能滴落新鮮的光刻膠。

在晶圓上均勻地涂上光刻膠膜是必要的，晶圓邊緣會出現膜稍微變厚的部分，稱為邊緣堆積。為了減少這種情況，要進行邊緣沖洗，還要設置背面沖洗功能，以防止光刻膠倒流到晶圓背面。沖洗功能如下圖：

晶圓表面一般親水性高，特別是正性光刻膠有時無法很好的涂布。此時，為了使晶圓表面具有疏水性，用一種名為HMDS（六甲基二硅氮烷）的有機溶劑進行處理。涂布光刻膠后，要進行預烘焙處理（也稱軟烘）來去除溶劑，

故進行熱處理的烘焙系統（如熱板）與旋轉涂膠機在生產線上都是按照連續化（In-Line）布置。