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晶圓級(jí)封裝與后膜光刻膠(上)
厚膜光刻膠和光刻聚合物目前已廣泛應(yīng)用于先進(jìn)封裝技術(shù)中。焊接凸點(diǎn)需要很厚的光阻層和較高重復(fù)精度,但并不要求很陡的側(cè)壁傾角;金凸點(diǎn)和銅布線則要求中等厚度的光阻膜,而且對(duì)側(cè)壁的精度與傾角要求都很高。對(duì)于感光介電材料中的過(guò)孔而言,最好應(yīng)有傾斜的側(cè)壁傾角以便與介電層下的金屬焊盤保持良好接觸。所有這些應(yīng)用均可采用貼近式掩膜整版曝光法以便經(jīng)濟(jì)地進(jìn)行大批量生產(chǎn)。
來(lái)源: | 作者:pmoe2a7d5 | 發(fā)布時(shí)間: 2024-01-22 | 5714 次瀏覽 | 分享到:

有報(bào)告指出,步進(jìn)器的光學(xué)結(jié)構(gòu)會(huì)被曝光時(shí)產(chǎn)生的BCB揮發(fā)物污染。在作貼近印刷時(shí),揮發(fā)物的濃度很低,不會(huì)形成污染。但如果有了污染,則應(yīng)經(jīng)常對(duì)掩模進(jìn)行清理,曝光系統(tǒng)在任何時(shí)候都不應(yīng)靠近聚合物。在二次布線過(guò)程中,晶圓上面的BCB電介層可作為一種附加的保護(hù)層。該層內(nèi)的外圍電路焊盤都是開路的,銅線從電介層的頂部穿過(guò)BCB層上的通孔,將外圍電路與BCB層頂端的大焊盤陣列連接起來(lái)[2]。此時(shí)可以用較高直寬比的正性光阻材料,如AZ 9260TOK PMER P-LA900PM等,這和前面金凸點(diǎn)部分一樣。 

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