同時可噴涂四個基片，相不污染。自動運行完成噴膠工藝。
設備主要由旋轉熱板系統、噴嘴掃描系統、流速控制系統、控制系統及排液系統等組成。
自動QD噴涂機，主要用于在晶圓表面噴涂甲苯、正己烷、UV液體，設備腔體密封，注入相應壓力流量的氮氣，氮氣需循環排放過濾使用。
設備主要由升降片盒（兩個片盒平臺）、中間布局機器人（負責晶圓的傳輸）、噴涂單元（配四套膠套－承片臺自動旋轉）、清洗單元（CUP自動升降）、自動加液、流速控制系統、控制系統及排液系統、配手氣操箱的檢測部份裝置等組成，整機采用框架結構，外表為優質不銹鋼護板，工作方式為自動上下片，自動完成噴膠、清洗、傳輸到檢測區的工藝。噴涂工藝流程：取片-對中-噴涂-見氧-清洗-排出。
一、片盒介紹
1.片盒單元加有密閉的緩沖腔體，每個部件都能承受氮氣與真空的條件，以及可手動打開后，按啟動按鈕完成腔體的排氧及進氮功能;
2.組成部份：升降固定板、片盒升降板、導桿、導線桿、電缸片盒板、片盒擋條、擋塊、卡條、按鈕傳感器;
二、機械手介紹
機械手單元主要用于在各單元間傳送晶片。采用高精度伺服電機控制同步帶驅動機械手，以滿足機械手定位精度。保證晶圓對中準確，不影響工作。機械手負責晶圓傳輸工作，從片盒到噴涂單元，再從噴涂單元到清洗單元，同時從清洗單元再傳輸到檢測區的片盒中，這個工藝順序是可以根據工藝菜單編輯；機械手單元主要用于在各單元間傳送晶片。采用高精度伺服電機控制同步帶驅動機械手，以滿足機械手定位精度。保證晶圓對中準確，不影響工作。
三、噴膠單元
（1） 四個二流體噴頭，四路供液系統，每一路都可以單獨開啟關閉，每一路加流量監控，磁力流量計加傳感器。氣路加流量計與潤濕功能。
（2） 噴頭流量范圍：1～30ml/min，流量在屏幕界面可以自由設置；
（3） 配置一個噴涂坐標校準和預掃描功能（光打點定位輔助設定噴涂坐標）；
（4） 腔體外配置腳踏板開關：用于手動操作時噴涂單元真空和腔體排氣的開關。真空腳踏板為點動開啟，點動關閉，排氣腳踏板為踩下時排氣，腳松時停止排氣；
（5） 調頻風泵和手動調節蝶閥控制噴涂作業時氣體循環；
（6） 噴頭霧化N2氣路和其他N2配置為獨立的廠務接口；
（7） 腔體外配置排廢閥和廢液桶收集廢液；
四、清洗系統
清洗單元主要用于單片的清洗功能，噴嘴也有加自動升降及旋轉功能，同時CUP實現升降功能，以便于取放晶圓；液體自動供給，真空吸附基片。CUP有防濺及排液功能，排液留有球閥控制；主軸轉速可調調控。CUP材料為PP材質，同時液體有排液桶及報警功能，以便于處理液體。
15891750928 / 029-8362-7399
51252494@qq.com
